總結(jié)
觀察多模光纖輸出端面的NFP（近場(chǎng)模式）。 采用850nm LD光源作為光源。 NFP測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)使用我們的高性能NFP測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)M-Scope Type S，物鏡使用M-Plan Apo 20x。 該探測(cè)器使用我們的ISA011高精度數(shù)字CCD探測(cè)器。
技術(shù)文章
使用850nm LD光源測(cè)量多模光纖出口端的NFP案例分析
使用850nm LD光源測(cè)量多模光纖出口端的NFP案例分析
測(cè)量系統(tǒng)
測(cè)量框圖
測(cè)量系統(tǒng)的配置
光束NFP測(cè)量裝置
光源
FC連接器輸出型溫控高穩(wěn)定性LD光源（850nm）LSL002/850
光學(xué)
高性能光束 NFP 測(cè)量光學(xué)元件 M 型示波器 S 型
目的
20倍物鏡M-計(jì)劃阿波20
探測(cè)器
高精度數(shù)字CCD探測(cè)器ISA011
數(shù)據(jù)處理和分析設(shè)備
光束分析模塊 AP013
其他
手動(dòng)3軸帶載物臺(tái)光纖測(cè)量光學(xué)支架OP002-F3
測(cè)量結(jié)果1（光束形狀分析，光束寬度測(cè)量）
使用850nm LD光源的多模光纖輸出NFP的觀察圖像和測(cè)量結(jié)果如左圖和下圖所示。
水平 52.342um / 垂直 52.940um（1/E 寬度）
測(cè)量條件
整體放大倍率：20倍（物鏡20倍）
像素分辨率：0.2325um
暗電流校正：是
應(yīng)計(jì)數(shù)量：8
測(cè)量結(jié)果 2（環(huán)形磁通分析）
使用此組件，可以執(zhí)行環(huán)形通量分析。 左圖顯示了在上述條件下從NFP測(cè)量圖像中獲得的包圍磁通量測(cè)量結(jié)果。
EF 圖：顯示在左側(cè)。
EF 分析條件
中心：區(qū)域重心
參考分析范圍設(shè)置：30um
半徑系數(shù)：1.15
分析間距：0.1um
后臺(tái)處理：是（系數(shù) 1.2）
測(cè)量點(diǎn)系統(tǒng)配置
光學(xué)元件選擇
對(duì)于光學(xué)系統(tǒng)，我們選擇了光束NFP測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)M-Scope S型。 另外，由于多模光纖芯的直徑約為50um，因此我們選擇了是普通型20倍的物鏡。 因此，實(shí)際視場(chǎng)約為324um x 242um，像素分辨率為0.233um。
探測(cè)器選擇
由于測(cè)量波長(zhǎng)約為850nm，分辨率很高，因此我們選擇了高精度數(shù)字CCD探測(cè)器ISA011。
EF分析功能
我們的NFP分析是一種使用放大光學(xué)系統(tǒng)和圖像檢測(cè)器的圖像處理分析方法。 將光束的二維光強(qiáng)分布捕獲為圖像并進(jìn)行圖像分析。 因此，除了正常的光束輪廓分析外，它還可用于功率分布分析，例如EF分析。 EF 分析是我們的光束分析軟件 Optometrics BA 標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)。
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光束NFP測(cè)量裝置
環(huán)形磁通和環(huán)繞角通量分析系統(tǒng)
產(chǎn)品目錄
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