半導體制造裝置用小型潔凈集塵機

半導體制造裝置用小型潔凈集塵機

小型 · 高負壓 · 干式 · HEPA · 半導體潔凈兼容
0.6 kW · 100 m3/h · -18 kPa · 0.3 µm 99.97 % · 重量 46 kg

一、產(chǎn)品定位

• 半導體制造裝置用：單片清洗、CMP、干刻、離子注入粉塵收集
• 小型集塵機：0.6 kW，100 m3/h，-18 kPa，底面積 A4 紙
• 干式 HEPA：0.3 µm 99.97 %，Class 100 兼容，無油污染
• TDC-1006-3/H-DX：0.6 kW，100 m3/h，-18 kPa，HEPA 99.97 %

二、核心技術參數(shù)（TDC-1006-3/H-DX）

三、功能亮點

1. 0.6 kW 小型：A4 底面積，放實驗臺，無需地基
2. -18 kPa 高負壓：比同級集塵機負壓高 50 %，適合高負壓吸塵
3. 0.3 µm 99.97 % HEPA：Class 100 兼容，無油污染
4. 6 L 大容量：6 L 粉塵桶，30 s 快換，無粉塵飛揚
5. 58 dB 靜音：空冷無冷卻水，24 h 運行不擾人
6. Class 100 潔凈：0.3 µm ≤ 100 pc/ft3，半導體潔凈兼容

四、典型應用系統(tǒng)

半導體單片清洗粉塵收集┌─ 清洗腔體 ─┐│               │粉塵← TDC-1006 ← 真空饋通 Φ50│               │└─ 回大氣 ────┘

• 高負壓 -18 kPa，0.3 µm 粉塵 99.97 % 捕集
• 6 L 粉塵桶，30 s 快換，無粉塵飛揚

五、實測數(shù)據(jù)（半導體驗證）

• 粉塵：0.3 µm SiO?，濃度 10 mg/m3
• TDC-1006-3/H-DX：
• 過濾效率 99.97 %（0.3 µm）
• 負壓 -18 kPa（穩(wěn)定）
• 噪聲 58 dB（比冰箱低）

六、選型與配件

七、維護與可靠性

• HEPA：每 6 個月更換一次
• 粉塵桶：每月清理一次
• 電機：年漂移 < 0.1 %，無需校準
• 整機 2 年質保，10 年配件保障

八、結論

小型 · 高負壓 · 干式 · HEPA · 半導體潔凈兼容
0.6 kW · 100 m3/h · -18 kPa · 0.3 µm 99.97 % · 重量 46 kg

一、產(chǎn)品定位

• 半導體制造裝置用：單片清洗、CMP、干刻、離子注入粉塵收集
• 小型集塵機：0.6 kW，100 m3/h，-18 kPa，底面積 A4 紙
• 干式 HEPA：0.3 µm 99.97 %，Class 100 兼容，無油污染
• TDC-1006-3/H-DX：0.6 kW，100 m3/h，-18 kPa，HEPA 99.97 %

二、核心技術參數(shù)（TDC-1006-3/H-DX）

三、功能亮點

1. 0.6 kW 小型：A4 底面積，放實驗臺，無需地基
2. -18 kPa 高負壓：比同級集塵機負壓高 50 %，適合高負壓吸塵
3. 0.3 µm 99.97 % HEPA：Class 100 兼容，無油污染
4. 6 L 大容量：6 L 粉塵桶，30 s 快換，無粉塵飛揚
5. 58 dB 靜音：空冷無冷卻水，24 h 運行不擾人
6. Class 100 潔凈：0.3 µm ≤ 100 pc/ft3，半導體潔凈兼容

四、典型應用系統(tǒng)

半導體單片清洗粉塵收集┌─ 清洗腔體 ─┐│               │粉塵← TDC-1006 ← 真空饋通 Φ50│               │└─ 回大氣 ────┘

• 高負壓 -18 kPa，0.3 µm 粉塵 99.97 % 捕集
• 6 L 粉塵桶，30 s 快換，無粉塵飛揚

五、實測數(shù)據(jù)（半導體驗證）

• 粉塵：0.3 µm SiO?，濃度 10 mg/m3
• TDC-1006-3/H-DX：
• 過濾效率 99.97 %（0.3 µm）
• 負壓 -18 kPa（穩(wěn)定）
• 噪聲 58 dB（比冰箱低）

六、選型與配件

七、維護與可靠性

• HEPA：每 6 個月更換一次
• 粉塵桶：每月清理一次
• 電機：年漂移 < 0.1 %，無需校準
• 整機 2 年質保，10 年配件保障

八、結論