超聲波洗槽應(yīng)用小流量超純水循環(huán)純水裝置

產(chǎn)品名稱(chēng): 超聲波洗槽應(yīng)用小流量超純水循環(huán)純水裝置

產(chǎn)品型號(hào): KCP-4006LK

產(chǎn)品特點(diǎn): 超聲波洗槽應(yīng)用小流量超純水循環(huán)純水裝置
日本 Reiken（冷研）KCP-4006LK 是一臺(tái)“高精度控制、高操作性"的純水循環(huán)裝置，專(zhuān)為潔凈室、實(shí)驗(yàn)室、超聲波洗槽、CMP、顯影等需要18 MΩ·cm 超純水且24 h 不間斷的場(chǎng)景設(shè)計(jì)。設(shè)備把RO + 離子交換 + 0.1 µm 終端過(guò)濾 + 在線(xiàn) TOC 監(jiān)測(cè)集成到 0.25 m² 占地，出水電阻率 18.2 MΩ·cm @ 25 °C，TOC

超聲波洗槽應(yīng)用小流量超純水循環(huán)純水裝置 的詳細(xì)介紹

超聲波洗槽應(yīng)用小流量超純水循環(huán)純水裝置

日本 Reiken（冷研）KCP-4006LK 是一臺(tái)“高精度控制、高操作性"的純水循環(huán)裝置，專(zhuān)為潔凈室、實(shí)驗(yàn)室、超聲波洗槽、CMP、顯影等需要18 MΩ·cm 超純水且24 h 不間斷的場(chǎng)景設(shè)計(jì)。設(shè)備把RO + 離子交換 + 0.1 µm 終端過(guò)濾 + 在線(xiàn) TOC 監(jiān)測(cè)集成到 0.25 m2 占地，出水電阻率 18.2 MΩ·cm @ 25 °C，TOC ≤ 3 ppb，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)，廣泛用于半導(dǎo)體 7 nm、OLED 蒸鍍、鈣鈦礦電池、精密洗槽補(bǔ)液的潔凈循環(huán)純水站。

? 核心賣(mài)點(diǎn)

18.2 MΩ·cm 穩(wěn)定：RO + 混床 + 精混床三級(jí)，電阻率漂移 < 0.1 MΩ·cm / 24 h
在線(xiàn) TOC ≤ 3 ppb：185 nm UV 氧化 + 電導(dǎo)池檢測(cè)，無(wú)需額外取瓶
0.1 µm 終端：PES 折疊囊式，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)，終端死體積 < 30 mL
高精度控制：流量 0.6 – 6 L/min 任意設(shè)定，PID 變頻恒壓，壓力波動(dòng) < ±0.01 MPa
高操作性：7 寸觸控 + 一鍵排空 / 一鍵消毒 / 一鍵校準(zhǔn)，30 s 完成換柱
24 h 連續(xù)：內(nèi)循環(huán)旁路，停機(jī) 7 天再啟動(dòng) 5 min 即達(dá) 18 MΩ·cm
占地 0.25 m2：600 × 420 × 580 mm，可放桌面或 19" 機(jī)架

?? 技術(shù)參數(shù)（KCP-4006LK）

表格

復(fù)制

項(xiàng)目	參數(shù)
產(chǎn)水水質(zhì)	電阻率 18.2 MΩ·cm @ 25 °C，TOC ≤ 3 ppb，Particle ≤ 1 pc/L (≥0.2 µm)
產(chǎn)水量	6 L/min（MAX），0.6 – 6 L/min 變頻調(diào)節(jié)
給水要求	城市自來(lái)水 / RO 水，電導(dǎo)率 < 200 μS/cm，壓力 0.1 – 0.4 MPa
預(yù)處理	10" PP + 活性炭 + 1 µm 保安過(guò)濾器
RO 單元	2540 卷式，脫鹽率 > 98 %，回收率 50 %
離子交換	混床 + 精混床（核級(jí)樹(shù)脂），裝填量 2.5 L + 1 L
UV-TOC	185 nm + 254 nm 雙波長(zhǎng)，在線(xiàn) TOC 監(jiān)測(cè)
終端過(guò)濾	0.1 µm PES 折疊囊式（POD），死體積 < 30 mL
在線(xiàn)監(jiān)測(cè)	電阻率 + TOC + 溫度 + 流量 + 壓力，1 s 記錄
控制方式	7 寸彩色觸控 + PLC，配方 50 組
數(shù)據(jù)接口	USB-A + RS-485（Modbus RTU）+ 以太網(wǎng)（TCP/IP）
消毒功能	一鍵化學(xué)消毒（0.1 % NaOH）+ 熱水消毒 80 °C
排空功能	一鍵排空管路，換柱 30 s 完成
電源	AC 100-240 V 50/60 Hz，400 W
尺寸 / 重量	600 × 420 × 580 mm / 45 kg
環(huán)境	0 – 40 °C，< 80 % RH（無(wú)冷凝）