半導(dǎo)體制造用多波段等離子體工藝監(jiān)測(cè)器

產(chǎn)品名稱: 半導(dǎo)體制造用多波段等離子體工藝監(jiān)測(cè)器

產(chǎn)品型號(hào): C10346-01

產(chǎn)品特點(diǎn): 半導(dǎo)體制造用多波段等離子體工藝監(jiān)測(cè)器
光譜范圍與速度
一次即可捕獲 200 nm–950 nm 寬波段等離子體發(fā)射光譜。
最快 20 ms（啟用檢測(cè)軟件時(shí) 50 ms）連續(xù)采樣，可一次記錄多達(dá) 15 000 條光譜，滿足快速工藝監(jiān)控需求。
測(cè)量精度與靈敏度
內(nèi)置高分辨率光譜儀與超高靈敏度光電探測(cè)器，保證光譜響應(yīng)度數(shù)據(jù)精準(zhǔn) 。
對(duì) 200 nm 紫外區(qū)仍保持高靈敏度，可檢測(cè)低強(qiáng)度自由基或離子發(fā)射

半導(dǎo)體制造用多波段等離子體工藝監(jiān)測(cè)器 的詳細(xì)介紹

半導(dǎo)體制造用多波段等離子體工藝監(jiān)測(cè)器

光譜范圍與速度

一次即可捕獲 200 nm–950 nm 寬波段等離子體發(fā)射光譜
。
最快 20 ms（啟用檢測(cè)軟件時(shí) 50 ms）連續(xù)采樣，可一次記錄多達(dá) 15 000 條光譜，滿足快速工藝監(jiān)控需求
。

測(cè)量精度與靈敏度

內(nèi)置高分辨率光譜儀與超高靈敏度光電探測(cè)器，保證光譜響應(yīng)度數(shù)據(jù)精準(zhǔn)
。
對(duì) 200 nm 紫外區(qū)仍保持高靈敏度，可檢測(cè)低強(qiáng)度自由基或離子發(fā)射
。

光纖與多腔室接口

標(biāo)配 SMA 接口光纖，可便捷接入不同反應(yīng)腔
。
一臺(tái)分析單元通過(guò) USB 2.0 最多可同時(shí)控制 4 臺(tái) C10346-01，實(shí)現(xiàn)多腔室并行監(jiān)測(cè)
。

終點(diǎn)與異常檢測(cè)

配套數(shù)據(jù)采集軟件可實(shí)時(shí)建庫(kù)，并可選配“檢測(cè)模型"軟件，通過(guò)發(fā)射光譜變化自動(dòng)判別蝕刻/清洗終點(diǎn)，及早發(fā)現(xiàn)空氣泄漏、雜質(zhì)侵入或異常放電
。
支持腳本級(jí)光譜運(yùn)算、歸一化、微分、積分等算法，可輸出 0–10 V 模擬量與 TTL 數(shù)字量信號(hào)，與主機(jī)臺(tái) EES 或 PLC 對(duì)接
。

數(shù)據(jù)管理與可視化

光譜數(shù)據(jù)可寫入 Access、SQLite、SQL Server 或 Oracle 數(shù)據(jù)庫(kù)；可顯示任意時(shí)刻或波長(zhǎng)的時(shí)間-強(qiáng)度曲線、3D 波形，并估算等離子體活性成分
。
提供趨勢(shì)圖、模擬圖表、故障檢測(cè)模型建立等分析工具，幫助工程師優(yōu)化工藝窗口
。

綜上，C10346-01 通過(guò)寬波段、高速、高靈敏度的發(fā)射光譜采集與智能算法，為半導(dǎo)體等離子體工藝提供實(shí)時(shí)、非侵入式的終點(diǎn)檢測(cè)與異常監(jiān)控解決方案，可提高產(chǎn)率、減少晶圓損傷并降低缺陷率

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